双轴线轨运动平台
满足高速高精度产品的定制需求，适用于光刻，薄片检测，CCD成像，三维成像等。- 产品介绍
- 产品特性
- 技术参数
- 图片参考
- 满足高速高精度产品的定制需求，适用于光刻，薄片检测，CCD成像，三维成像等。
- 交叉滚珠导轨，低摩擦，高刚性，可做超高定位精度；
- 直线电机驱动，光栅尺编码反馈；
- 1nm分辨率光栅；
- X、Y亚微米级重复定位精度，重复定位精度可达±0.1μm；
- 速度均匀性极佳，100mm/s速度波动可达正负千分之一；
- 纳米级定位抖动，100ms内可收敛到20nm以内；
- 最大速度200mm/s，最大加速度0.5g；
- 微米级直线度与平面度，单轴直线度可达±1.5m，运动平面度可达±1.5μm；
- X、Y两轴正交性可达5 arc sec。
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